[新聞] 超猛!美國成功挑戰0.7奈米製程 EUV做不到
來源:
https://ec.ltn.com.tw/article/breakingnews/4069196
原文:
超猛!美國成功挑戰0.7奈米製程 EUV做不到
美國公司Zyvex 宣布推出世界上製造精密度最高的微影系統-- ZyvexLitho1,能製作出
0.7奈米晶片,這個曝光機製造出來的晶片主要用於量子電腦。
根據美國的Zyvex 公司官網介紹,名為ZyvexLitho1 系統是基於STM掃描隧道顯微鏡,使
用的是EBL電子束微影技術,成功製造了768皮米,也就是0.7奈米的晶片,相當於2個矽原
子的寬度,是當前製造精密度最高的微影系統。
這套 EBL 系統,專門提供給量子電腦使用,雖然技術大幅領先荷商ASML EUV,因產量非
常低,不可能應付市面晶片需求,亦即無法取代 EUV 地位。
STM技術發明者、伊利諾伊大學教授Joe Lyding表示,到目前為止,Zyvex實驗室的技術是
最先進的,也是這種原子級精確微影技術的唯一商業化實現。
矽量子計算公司執行長Michelle Simmons 則稱,建立一個可擴展的量子電腦有許多挑戰
。我們堅信,要實現量子計算的全部潛力,需要高精度的製造。我們對ZyvexLitho1感到
興奮,這是第一個提供原子級精密圖案的商業化工具。
根據 HPCwire 報導,Zyvex是致力於生產原子級精密製造工具的奈米技術公司。新產品是
在美國國防部旗下DARPA(國防高等研究計畫署)、美陸軍研究辦公室、能源部先進製造
辦公室,以及德州大學達拉斯分校教授Reza Moheimani支持下完成的。
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※ 發信站: 批踢踢實業坊(ptt.cc), 來自: 111.242.22.68 (臺灣)
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※ 編輯: kof70380 (111.242.22.68 臺灣), 09/25/2022 16:32:30
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