[新聞] 晶圓薄化專利於二審續判無效,昇陽半導體與宜特科技轉戰營業秘密侵害
晶圓薄化專利於二審續判無效,昇陽半導體與宜特科技轉戰營業秘密侵害
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針對昇陽國際半導體公司(下稱昇陽)控告宜特科技(下稱宜特)侵害昇陽擁有的中華民
國I588880號「晶圓薄化製程」發明專利權一案,智慧財產法院曾於民國109年6月23日作
出一審判決,判決該I588880號專利無效;昇陽對該判決不服而提起上訴,並續行主張宜
特侵害該 '880號專利權。
智慧財產法院於今年(2021) 6 月 4 日作出二審判決,依舊認為昇陽專利所擁有的該
'880號專利權,屬於通常知識之輕易組合,故不具備進步性,因此判決再次認定該 '880
號「晶圓薄化製程」專利無效。
惟昇陽與宜特之間的智財權攻防,除了專利侵害訴訟之外,自今年2月起,亦展開營業秘
密侵害相關訴訟。宜特及其兩位員工因涉嫌侵害昇陽半導體營業秘密,於今年2月遭新竹
地檢署起訴;昇陽稍後於今年3月向新竹地方法院提起刑事附帶民事訴訟,請求宜特及相
關人等賠償。因宜特涉案的兩位員工曾是世界先進員工,昇陽半導體一併對世界先進提起
刑事附帶民事訴訟,請求連帶賠償損失及所失利益;如此原本是晶圓封裝廠間,針對晶圓
薄化技術相關智財權攻防戰火,進一步擴大到上游晶圓代工廠牽扯其中。
中華民國I588880晶圓薄化製程發明技術內容及家族專利範圍
中華民國發明專利TW- I588880,專利名稱:晶圓薄化製程,申請日為2016年6月28日,並
未引用其他更早的優先權日,更正後請求項1及2,表格整理如下。說明書圖示2~3分別對
第1圖晶圓薄化製程之步驟1、2進一步舉例說明詳細製程步驟。
如表二所示,比較得知,推論昇陽訴訟過程中企圖維護該 '880專利有效性策略,係把該
中華民國 '880專利更正後請求項調整修改為與對應美國專利US10026603B2或歐盟專利
EP3264449B1專利範圍第1項一致。昇陽可能評估既然如此專利範圍能通過美國與歐洲專利
局審查而核准為有效專利範圍,應該有合理基礎應該也能通過智慧財產法院的有效性判斷
。
880號「晶圓薄化製程」專利二審續判無效
雖然昇陽把該中華民國 '880專利更正後請求項1修改為與對應美國 '603專利或歐盟
'449 專利範圍第1項實質一致,但是當面對宜特於訴訟過程中所引用的多項前案證據攻擊
下,更正後請求項1並未獲得技審官認同具有進步性,最後仍被判定為無效。智慧財產法
院判定更正後請求項1、2無效所依據的五種前案證據組合如表三所示。表四僅以表格方式
說明智慧財產法院所依據的(一)乙證14及24組合,與 (二)乙證14、24及25組合之無效比
對。
具體相關先前技術證據專利號資訊為:
乙證14為美國第2008/0045015號「蝕刻晶圓之方法」專利案
乙證23為美國第2002/0106518號「氟化樹脂塗覆之石英玻璃夾具及其製法」
乙證24為WO 2005/036629號「晶圓粗化表面的製程」專利案
乙證25為美國第5899731號「半導體晶圓之製法」專利案
乙證26為美國第4294651號「表面處理半導體基板之方法」專利案
乙證27為美國第6169038號「粗化蝕刻半導體表面之方法」專利案
結語
(1) 扮演攻擊方的昇陽半導體,主動發起第二波出擊以展現其強盛企圖心,推論當智
慧財產法院於去年6月作出不利昇陽的一審判決後,昇陽內部可能就設定期限,開始積極
為今年2月的營業秘密訴訟積極進行準備。倘若此次營業秘密訴訟未能獲致昇陽內部設定
的預期目標成果,不知道是否會繼續將戰場轉進到美國或歐洲專利訴訟?
(2) 智慧財產法院判決附圖中,列出若干原告昇陽半導體當初委託外部事務所準備的
專利侵權比對分析報告(甲證7)中主張侵權的宜特製程相關影片之截圖。從影片格式來
看,推論應該是宜特科技公司上傳到Youtube的「宜特科技解你的痛系列-02揭開晶圓薄化
太鼓製程神秘面紗」影片,遭到原告昇陽收集截圖作為侵害比對的依據。如此把公司內部
晶圓薄化製程相關影片公開流傳於網路上,雖有助於向客戶行銷說明公司先進製程技術水
準,但另一方面也可能大幅降低專利權人收集侵權證據的困難度,相關影片揭露內容尺度
掌握應謹慎。
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