[新聞] 生產3奈米晶片!陸半導體技術重大突破「不同於ASML」
原文標題:生產3奈米晶片!陸半導體技術重大突破「不同於ASML」
※請勿刪減原文標題
原文連結:
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發布時間:
12:232025/03/25
工商 賴瑩綺
※請以原文網頁/報紙之發布時間為準
記者署名:
12:232025/03/25
工商 賴瑩綺
※原文無記載者得留空
原文內容:
大陸快科技報導,中國科學院研發除了突破性的固態DUV(深紫外線)雷射,可發射193nm的
相干光,與目前主流的DUV曝光波長一致,能將半導體製程推進至3nm。
據悉,ASML、佳能、Nikon的DUV光刻機都採用了氟化氙(ArF)準分子雷射技術,透過氬、
氟氣體混合物在高壓電場下生成不穩定分子,釋放出193nm波長的光子,然後以高能量的短
脈衝形式發射,輸出功率100-120W,頻率8k-9kHz,再透過光學系統調整,用於曝光設備。
中科院的固態DUV雷射技術完全基於固態設計,由自製的Yb:YAG晶體放大器產生1030nm的雷
射,在通過兩條不同的光學路徑進行波長轉換。之後,轉換後的兩路雷射透過串級硼酸鋰(
LBO)晶體混合,產生193nm波長的雷射光束。
最後獲得的雷射平均功率為70mW,頻率為6kHz,線寬低於880MHz,半峰全寬(FWHM)小於0.
11皮米(千分之一奈米),光譜純度與現有商用準分子雷射系統相當。基於此,可用於3nm
的製程節點。
報導稱,這種設計可以大幅降低微影系統的複雜度、體積,減少對於稀有氣體的依賴,並大
幅降低能耗。
報導指出,這種全固態DUV光源技術雖然在光譜純度上已經和商用標準相差無幾,但是輸出
功率、頻率都還低很多。對比ASML的技術,頻率達到了約三分之二,但輸出功率只有0.7%
的水平,因此仍然需要繼續迭代、提升才能商用。
心得/評論:
每次看中時集團的新聞都覺得好好笑
標題很會下~生產3奈米?
內文193nm DUV ~只能生產65nm好嗎?
要搭配immersion 才能做40nm以下到7nm
你光能量只有ASML的0.7%,到底樣泡水裡面?
笑死人
※必需填寫滿30正體中文字,無意義者板規處分
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