[新聞] 高盛:中國曝光機研發停留在 65 奈米,落後世界大廠 20 年時間
原文標題:高盛:中國曝光機研發停留在 65 奈米,落後世界大廠 20 年時間
原文連結:https://reurl.cc/EQYkp0
發布時間:2025 年 09 月 02 日 9:00
記者署名:作者 Atkinson
原文內容:
根據外資高盛的最新報告表示,中國在半導體製造關鍵環節的曝光技術研發上,至少落後
國際同業 20 年的時間。
報告指出,這項技術不僅是數個半導體製造重要環節,更是阻礙中國生產高階晶片的唯一
瓶頸。而這當中,荷蘭 ASML 公司製造的先進曝光機,特別是其極紫外光 (EUV) 及高
數值孔徑 EUV 曝光機能夠在矽晶圓上建構出極小的電路圖案,從而大幅提升晶片性能。
然而,正是這些尖端設備的供應,成了中國的痛點。
目前,由於 ASM 的曝光機仍高度依賴美國原產的零組件,美國政府得以利用此影響力,
限制其向中國銷售。這項禁令對中國科技產業造成了深遠影響,例如中國科技大廠華為因
其與軍方的聯繫而遭美國政府制裁,無法從台灣台積電獲取晶片,被迫轉向國內的中芯國
際(SMIC)尋求支援。只是,中芯國際也未能倖免,同樣面臨採購 EUV 晶片製造曝光機
的限制,這代表著中國企業目前在晶片製造上,最高只能達到 7 奈米水準。
高盛的報告表示,即便中芯國際能生產出 7 奈米製程的晶片,但是這些 7 奈米晶片極有
可能還是透過 ASML 較舊的深紫外光(DUV)曝光機來生產製造,因為中國本身尚不具備
製造先進曝光機的能力,因為這些設備的核心零組件主要來自全球,尤其是美國和歐洲。
高盛的分析明確指出,曝光技術在晶圓上達成精細電路建構的關鍵作用,使其成為晶片製
造流程中的決定性瓶頸。目前,全球領先的晶片製造商如台積電,已能大規模生產 3 奈
米晶片,並正積極準備進軍 2 奈米技術。反觀中國國內的曝光設備製造商,其技術水平
仍停留在相對陳舊的 65 奈米製程。
高盛的報告還引述了數據強調,荷蘭 ASML 為了從 65 奈米技術躍升至低於 3 奈米的曝
光能力,歷經二十年的時間,並投入了高達 400 億美元的研發與資本支出。綜合考量中
國當前技術水平與所需龐大投入,以及全球供應鏈的複雜依賴性,該外資數據悲觀地預測
,中國企業在短期內趕上西方先進技術的可能性「微乎其微」。這無疑為中國在高階晶片
領域達成自給自足的願望,設下了巨大的障礙。
(首圖來源:ASML)
心得/評論:
看來最先進的曝光機的核心技術還是被美國牢牢掌握。
台灣雖然不喜歡川普政權的咄咄逼人,但以半導體為命脈的台灣,看來也只能 選
擇與美國站在同一陣線,承受地緣政治帶來的風險與壓力.......
另外 若中國還是無法在曝光機有重大突破 台gg應該看來10年內沒有對手了吧?
--
※ 發信站: 批踢踢實業坊(ptt.cc), 來自: 59.125.182.141 (臺灣)
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