[請益] 請問FAB廠的半導體製程金屬前後製程區分

看板Tech_Job (科技人)作者 (griffey)時間13年前 (2012/07/28 23:23), 編輯推噓1(103)
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如標題 一般都會怕金屬有汙染到機台 請問版上製程或整合工程師 怎樣去界定啊?? 有Silicide算是金屬後了嗎?? 還是要進入後段的金屬層才是 -- ※ 發信站: 批踢踢實業坊(ptt.cc) ◆ From: 114.34.232.108

07/28 23:28, , 1F
會換foup 有污染問題的站點就換該金屬專用foup
07/28 23:28, 1F

07/28 23:36, , 2F
樓上指的是銅製程 通常是以contact layer做區隔
07/28 23:36, 2F

07/29 00:34, , 3F
以 Foup 區分
07/29 00:34, 3F

07/29 21:22, , 4F
foup~~~O2 and N2 bala bala..
07/29 21:22, 4F
文章代碼(AID): #1G50FmAv (Tech_Job)
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