Re: [請益] 請問有大大知道Pattern density嗎?

看板Tech_Job (科技人)作者melzard (如理實見)時間7年前 (2017/07/30 01:15)推噓8(8推 0噓 2→)

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※ 引述《doourbest23 (miaw)》之銘言： : 如題 : 請問大大知道Pattern Density effect嗎?(也有人稱為Loading effect) : 知道Pattern Density與u-trench/fence/facet的關係嗎? : Pattern Density 與EPD(End point detection)之間有何關係嗎? 鍵盤工程師大概講一下有講錯的話請專業人士出來指正感謝 Loading effect在蝕刻過程指的是pattern的分布差異在蝕刻過程中造成的蝕刻速度, sidewall polymer沉積速率的影響. 比如說, 現在蝕刻的圖形是孔洞(Via hole), 在孔洞密集分布的區域和孔洞分散的區域蝕刻時的速度和sidewall polymer沉積速率的表現是不一樣的. ex: 密集分布區孔洞分散區 O O O O O O O O O O O O O O O O O O O O O O O O O O O O 這兩種不同的圖形polymer沉積表現會不同. 想像polymer是灰塵, 同樣數量的灰塵掉下來在左邊的圖形和右邊的圖形區域最後單一孔洞裡兩邊的灰塵數量一定是右邊比較多. 因為灰塵被均勻分散到一大堆的孔洞裡了. 這裡舉的例子是所謂的Macro loading effect. 就是在圖形密集/分散的表現差異. Micro loading effect則是圖形的大小差異造成 ex: 大洞洞小洞洞 ○ 。一看就知道小洞洞比大洞洞容易被sidewall polymer(灰塵) 塞滿滿的弄得不要不要的然後就etch stop了對吧? Pattern Density與u-trench/fence/facet的關係請問知道的人 u-trench/fence/facet 這個我不熟 Pattern Density 與EPD(End point detection)之間關係以line etch舉例, Pattern Density越高表示整片wafer要蝕刻的區域越小, EPD秒數會越短, 因為要蝕刻的區域少.反之要蝕刻區域越多EPD就要花更長時間才行. 大概4這樣給你作參考 -- Nier automata : 史上最讚的人造人夫妻檔故事沒有之一 http://i.imgur.com/KTq7y5L.jpg

http://i.imgur.com/C8mM4y0.jpg

http://i.imgur.com/CSIjaWB.jpg

http://i.imgur.com/a17STzl.jpg

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