[新聞]避免美日材料大廠卡脖子,中國推動國產光阻供應鏈
避免美日材料大廠卡脖子,中國推動國產光阻供應鏈
https://technews.tw/2024/12/18/china-photoresist/
隨著中國半導體產業邁向自給自足,不僅要開發精密的晶片製造工具,還要開發高純度光
阻劑,這對製造先進晶片相當重要。根據研調機構 TrendForce 報告,中國今年在光阻發
展有顯著進步,主要受政府支持,以及當地晶片製造商需求增加。
半導體光阻劑主要用於生產離散元件、LED 和積體電路。透過縮短曝光波長來提高解析度
,實現更高密度的IC。根據曝光波長分類,包括寬頻 UV(300-450nm)、g 線(g-line,
436nm)、i 線(i-line,365nm)、KrF(248nm)、ArF(193nm)、EUV(13.5nm)和電
子束類型。
其中,KrF、ArF 和 EUV 光阻劑純度最高、擁有最先進技術,核心技術主要由來自日本及
美國的大廠主導,如 JSR、日本東京應化工業(Tokyo Ohka Kogyo)、信越化學、住友化
學、富士軟片(Fujifilm)及杜邦(DuPont)等龍頭企業掌控。
中國公司如上海新陽、彤程(Rachem)和徐州博康(Bcpharma)在入門級光阻劑取得進展
,但由於技術挑戰和起步較晚,高階市場競爭力有限。目前中國國內光阻劑滲透率仍低,
g-line 和 i-line 光阻劑滲透率約 20%,KrF 低於 5%、ArF 更是低於 1%。
不過,也有中國企業在高階光阻劑上大步前進。 湖北鼎龍最近宣布其浸沒式 ArF 及
KrF 晶圓光阻劑產品順利通過客戶驗證,成功獲得兩間中國晶圓廠訂單,總金額超過百
萬人民幣(約 13.7 萬美元)。
根據湖北鼎龍公告,公司針對 KrF、 ArF 光阻劑的技術要求設計單體結構、樹脂結構、
配方等,提高純化、過濾、混配等工藝等級,開發出 KrF、ArF 光阻劑專用樹脂及其高純
度單體、光致產酸劑等關鍵材料以及光阻劑產品,實現從關鍵材料到光阻劑產品自主可控
的全流程國產化,符合下游客戶產業鏈供應鏈安全自主可控的需求。
另一間深圳容達收到中國深交所審核通過,獲得 2.44 億人民幣(約 3,350 萬美元)私
募配售的批准,可以簡易形式向特定對象發行 904.71 萬股,發行價格為每股 26.97 人
民幣,募集資金 2.44 億人民幣。扣除相關發行費用後,將全部用於高階感光線路乾膜光
阻劑建設專案、IC 載板阻焊乾膜光阻劑,及支援研發成本和營運需求。
TrendForce 認為,中國政府大力支持半導體及原物料產業發展,推出扶持光阻產業的政
策,都不斷加速該領域研發和生產,實現核心技術的中國國產替代品。
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