Re: [請益] 機械製造一問
輪磨指的是用砂輪加工歸類為 grinding
半導體用的設備可以達到鏡面
lapping 是液態磨粒加工 磨粒尺寸約0.01mm
加工方法為 水+分散劑+磨粒
可以使工件達到良好的平整度
為拋光的前製程
但對脆硬材料會有表面破壞層
polishing 也是液態磨粒加工 磨粒尺寸約0.001mm
加工方法為 水+拋光液+磨粒
如拋光液有化學作用則稱 CMP 化學機械拋光
: ※ 引述《leonmark2001 (匿名)》之銘言:
: : 輪磨加工中的
: : lapping polishing
: : 要怎麼區分?成品又有什麼差別?
: : 一個是使他平整,一個是讓他精光成鏡面嗎?
: : 感謝各位!
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