Re: [請益] 日本一直把持光阻劑市場?

看板Tech_Job (科技人)作者 (tobbaco)時間1年前 (2022/12/07 12:05), 1年前編輯推噓10(10071)
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光阻Photoresist就是照光會反應的材料,沒什麼困難的概念 在半導體上從低階到高階都會有,現在日本市佔大的就高階的光阻 大概佔90%以上,都是信越 JSR TOK 富士軟片跟住友占走 最高階的EUV光阻,信越跟JSR跑在前面。 日本的有機合成經驗多,且材料純度高,做食品或味素的公司做電子 材料也可以賣很好。然後早起就進入光反應樹脂的市場,累積大量開發 與合成經驗當然越走越遠,專利也越寫越多 不過現在光阻的基礎骨幹結構與配方都寫在Paper上,也不是甚麼新東西 材料現在有用MI在模擬,配方與結構遲早被摸出來。 剩下只有繞過專利惹,如果不理專利的話應該難度不會太高。 但是當然會不會只有配方這麼簡單,每個layer的特性都要做調整 差幾奈米的pattern效能天差地遠。 除了配方以外,量產與純化標準都高到不行,雜質含量也是0後面好幾個0的程度 量產製造的與純化要達到這個要求,know how也是很多,連環境也要高等的無塵室才行。 這些也是提早進入市場所累積出來的經驗,現在EUV的技術與貨物出口都要經過日本政府 審查同意,連開發人員都要身家調查才給摸,拿來當貿易武器的東西真的不一樣。 最後,最重要的是,要有FAB給你測,晶片製造商很難讓一個沒有經驗與信賴性的 原料供應商測光阻,不知道品質與量產能力,還沒有實績;如現在EUV的測試因為材料 供應商沒有EUV的tool,只能給有tool的客戶或是實驗室測,整個拉長了開發時間;如果 有新來的供應商應該沒甚麼空間能夠生存。 所以自然就只剩下這些供應商存在了。 -- ※ 發信站: 批踢踢實業坊(ptt.cc), 來自: 101.102.210.72 (日本) ※ 文章網址: https://www.ptt.cc/bbs/Tech_Job/M.1670385914.A.EE6.html

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做晶圓代工有產業升級條例晶片法政策補貼 光阻液無
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12/07 12:38, 1年前 , 2F
日系都是Vendor代理;理工科系進產線三寶是大宗
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這個事件應該會讓後進者門檻又拉高
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別那麼認真回廢文好嘛
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12/07 13:09, 1年前 , 6F
認真的話 上次GG有個材料發生問題的事件 可以看看
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那會影響良率很嚴重的
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主管一句話「換了之後出問題誰負責」就不會有人試了
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推拉
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12/07 13:41, 1年前 , 10F
開頭的邏輯,跟EUV就是比較短波的光,沒什麼困難的
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概念有什麼兩樣
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根本也不用什麼ML, 你要有評估機台的話平常做的DOE
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就夠了
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就有點不一樣的反應機制,做出能反應的應該還行 難的是能做到符合High pitch或是crtical layer的光阻 評估Tool 材料商買不起,小廟供不了大佛

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原料純是一回事,做成高分子是另一件事。分子量中
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心值、分子量分布要做到幾個標準差內,能穩定的做
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到多窄,配方的生產準度有多高,還有無塵室有多潔淨
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通通影響最後產出。做出來了誰要陪練?有實績線上也
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12/07 13:52, 1年前 , 18F
不一定敢換,沒實績的那根本是鬧笑話。
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對應不同layer有很多配方,大家都是要搶first source啦

12/07 14:04, 1年前 , 19F
概念很簡單 做很難 聚合過程要保持均勻就很難了
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12/07 14:35, 1年前 , 20F
要做進口替代也是當局出來當召集人再加稅排擠進口
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毛利比你想像的高,加稅應該不太行 ※ 編輯: tobbaco (101.102.210.72 日本), 12/07/2022 15:02:16

12/07 14:53, 1年前 , 21F
其實EDA也一樣 軟體做出來半導體廠不跟你合作認證也
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沒用 想當半導體供應商也沒那麼簡單
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專業
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12/07 18:27, 1年前 , 24F
不同製程光阻需要的感度跟穿透深度,跟舊世代的光
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阻差異又不是一點點,不是能反應就還行,深寬比、耐
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蝕、模數、直線或挖孔的特性也差蠻多的,這樣子能
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當差不多的話,那5或3奈米製程跟22奈米也是差不多
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的概念啊,不同的那一點點就是量產跟嘴炮的差別。
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光阻的光化學雖然是照光交聯,但其實其背後光化學
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很複雜,光一個OXE-01的光反應文獻都尚未有定論,
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其材料背後know how不只在有機合成而已。
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就像有時候code 可以跑跟飛機會飛一樣 ※ 編輯: tobbaco (49.97.29.6 日本), 12/07/2022 19:31:30

12/07 19:51, 1年前 , 32F
OXE-01都幾年了哪裡還不知道
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一路出到04、05都有了,原廠還被陸廠巴假的
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12/07 19:54, 1年前 , 34F
專利沒寫好被找洞就算了,後來還被超越
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12/07 20:12, 1年前 , 35F
oxime ester type後來的專利申請數非常多,變來變去
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大致上就是調整吸收頻譜,調整側鏈去配合溶解性與遷
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移問題,改感度,改善厚膜表現,或是強化表面光交聯
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。但是這是負型光阻的材料,正型用的光酸熱酸還有
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酸放大劑又是另一個世界
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最後一點最重要,GG不幫測就真的沒用了
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這些特化用品台灣不一定不能做,光引發劑就有本土
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供應商,但光是靠本土的市場要熬到能開始外銷就很
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難。台商懂得要拿哪些原料來搭配的公司,多半具有
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生產或是根本就只是不做而已,你是小供應商會不會
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怕怕的幹脆不賣或是市場評估完就不玩了。而且越下
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游水又深又冰,給你做出光阻好了,費了各種人脈各
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種資源,砸了一堆錢後,終於通過驗證,價格開他一
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公斤數十萬好了,幾噸幾噸賣淨利能不能賺個幾十億?
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半導體產線一次MO歸咎到材料的問題,賠償責任是幾十
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億到百億,新進廠商口袋要有多深,性格要有多扭曲才
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要玩這種生意?
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12/07 20:44, 1年前 , 52F
對啊,做出來還沒辦法自己測到底怎麼知道做的好不好
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?GG肯測也不會無限制的共享測到的結果,很多使用上
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的問題沒機台根本沒有再現的可能,那要怎麼改?
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12/07 21:54, 1年前 , 55F
默克不是也有做光阻?
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12/07 22:19, 1年前 , 56F
OXE-01雖然出來很多年了,但在照光時的光化學反應
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機制一直到去年底都還有新研究論文發表。
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12/07 22:41, 1年前 , 58F
如果有人發表新模型補充過去不足之處,這樣要算得上
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沒有定論等等,那irgacure-907這種老掉牙的東西,前
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幾年有人也發了一些計算的內容,不就也要說過去一
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樣沒有定論?這些東西如果還雲裡霧裡的,就不會有
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陸廠整系列的產品一隻一隻出來。甚至有開發商的專利
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直接講明用什麼計算模型去跑,鍵長應該落在哪個範
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圍比較適合。除了直接預測QY或自由基壽命這種需求,
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大部分情況沒那麼多不確定的地方
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12/07 23:05, 1年前 , 66F
新的文獻並不是補足不足的部分,而是提出與先前認
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為的躍遷機制所預測的路徑有不同的實驗結果,雖然
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這些機制對於大多數情況並不會有很大的影響,但一
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些文獻有提到這些機制的差異可能會影響到細微結構
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的CD跟LER
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12/07 23:08, 1年前 , 71F
半導體化學品不光專利佈局的問題而已,沒有在專利
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上的know how 也不少,本土廠商即便追上了能不能進
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12/07 23:08, 1年前 , 73F
廠驗證還是另一個問題
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12/07 23:14, 1年前 , 74F
驗證一直以來都是關鍵
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12/07 23:17, 1年前 , 75F
你講的文獻方便給DOI或關鍵字嗎?沒有也沒關係,就
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12/07 23:17, 1年前 , 76F
加減看看,現在不搞這個了
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12/07 23:21, 1年前 , 77F
以光阻類的東西來說,敢寫出來的多半都不怕抄,你
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12/07 23:21, 1年前 , 78F
覺得他逆向工程超強呢還是沒寫的小東西才是真正重點
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12/07 23:21, 1年前 , 79F
呢?這種陰人的細節,靠經驗的know how很多吧
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12/08 13:22, 1年前 , 80F
叫教授去研發替代品 讓學生去上班工作生活平衡啊
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12/08 13:23, 1年前 , 81F
讓政府撥預算補貼研發光阻劑研磨劑
12/08 13:23, 81F
文章代碼(AID): #1Za13wxc (Tech_Job)
文章代碼(AID): #1Za13wxc (Tech_Job)